Institutet för fysik och teknik RAS

Institutet för fysik och teknologi ( FTIAN ) är ett institut vid avdelningen för nanoteknologi och informationsteknologi vid den ryska vetenskapsakademin .

Sedan maj 2017 är direktören för Institutet för fysik och teknik - motsvarande medlem av den ryska vetenskapsakademin, doktor i fysikaliska och matematiska vetenskaper Vladimir Fedorovich Lukichev .

Vetenskapliga indelningar

• Laboratorium för matematisk modellering av fysiska och tekniska processer i mikroelektronik (MMFTPM)
• Laboratorium för mikrostrukturering och submikronenheter (MSSP)
• Submicron Lithography (SL) Laboratory
• Laboratoriet för ytfysik och mikroelektroniska strukturer (FPMS)
• Laboratory of Physical Foundations of Quantum Computing

Projekt och forskning

• Ion Beam Technologies
• Plasma-kemisk etsning är en teknik för att skapa MEMS- och NEMS-element

Historia om FTIAN

Skapad 1988 på grundval av Institutionen för mikroelektronik vid Institutet för allmän fysik vid USSR Academy of Sciences .

Tidigare var direktörerna för institutet: akademiker Kamil Akhmetovich Valiev och akademiker Orlikovsky Alexander Aleksandrovich , som ersatte honom i denna post 2005 .

Se även

• Yaroslavl gren av Institutet för fysik och teknik RAS

Länkar

• Institutet för fysik och teknik (FTIAN)
• Institutionen för fysiska och tekniska problem av mikroelektronik på grundval av Institutet för fysik och teknik